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Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)x

簡(jiǎn)要描述:Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)xFR-pRo是一個(gè)模塊化和可擴(kuò)展平臺(tái)的光學(xué)測(cè)量設(shè)備,用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

  • 產(chǎn)品型號(hào):FR-pRo
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 產(chǎn)品資料:查看pdf文檔
  • 更新時(shí)間:2024-08-21
  • 訪  問(wèn)  量: 10351

詳細(xì)介紹

膜厚測(cè)量?jī)x是一種用于測(cè)量薄膜、涂層或其它薄層材料厚度的儀器。膜厚測(cè)量?jī)x通常采用不同的工作原理和技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的厚度測(cè)量,常見(jiàn)的膜厚測(cè)量?jī)x包括:
1、X射線熒光測(cè)厚儀:利用X射線照射樣品表面,通過(guò)測(cè)量熒光光譜來(lái)確定薄膜厚度。
2、聲表面波測(cè)量?jī)x:利用超聲波在薄膜表面?zhèn)鞑サ奶匦詠?lái)測(cè)量薄膜厚度。
3、光學(xué)干涉儀:利用光學(xué)干涉原理測(cè)量薄膜的厚度,常見(jiàn)的有白光干涉儀和激光干涉儀。
4、磁感應(yīng)測(cè)厚儀:通過(guò)測(cè)量磁感應(yīng)信號(hào)來(lái)確定薄膜或涂層的厚度。
膜厚測(cè)量?jī)x在工業(yè)生產(chǎn)、材料研發(fā)、電子設(shè)備制造等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用,可幫助用戶準(zhǔn)確測(cè)量和控制薄膜的厚度,確保產(chǎn)品質(zhì)量和性能。使用膜厚測(cè)量?jī)x時(shí),需要根據(jù)實(shí)際情況選擇適合的儀器和測(cè)量方法,并注意儀器的操作規(guī)范和安全注意事項(xiàng)。

Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)xFR-pRo概述:

FR-pRo膜厚儀: 按需搭建的薄膜特性表征工具。

FR-pRo膜厚儀是一個(gè)模塊化和可擴(kuò)展平臺(tái)的光學(xué)測(cè)量設(shè)備,用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

FR-pRo膜厚儀是為客戶量身定制的,并廣泛應(yīng)用于各種不同的應(yīng)用。

比如:

吸收率/透射率/反射率測(cè)量,薄膜特性在溫度和環(huán)境控制下甚至在液體環(huán)境下的表征等等…

Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)xFR-pRo應(yīng)用:

1、大學(xué)&研究實(shí)驗(yàn)室

2、半導(dǎo)體行業(yè)

3、高分子聚合物&阻抗表征

4、電介質(zhì)特性表征

5、生物醫(yī)學(xué)

6、硬涂層,陽(yáng)極氧化,金屬零件加工

7、光學(xué)鍍膜

8、非金屬薄膜等等…

FR-pRo膜厚儀可由用戶按需選擇裝配模塊,核 心部件包括光源,光譜儀(適用于 200nm-2500nm 內(nèi)的任何光譜系統(tǒng))和控制單元,電子通訊模塊。

此外,還有各種各種配件,比如:

1.用于測(cè)量吸收率/透射率和化學(xué)濃度的薄膜/試管架;

2.用于表征涂層特性的薄膜厚度工具;

3.用于控制溫度或液體環(huán)境下測(cè)量的加熱裝置或液體試劑盒;

4.漫反射和全反射積分球。

通過(guò)不同模塊組合,蕞終的配置可以滿足任何終端用戶的需求。

Specificatins 規(guī)格:

Model

UV/Vis

UV/NIR -EXT

UV/NIR-HR

D UV/NIR

VIS/NIR

D Vis/NIR

NIR

光譜范圍  (nm)

200 – 850

200 –1020

200-1100

200 – 1700

370 –1020

370 – 1700

900 – 1700

像素

3648

3648

3648

3648 & 512

3648

3648 & 512

512

厚度范圍

1nm – 80um

3nm – 80um

1nm – 120um

1nm – 250um

12nm – 100um

12nm – 250um

50nm – 250um

測(cè)量n*k 蕞小范圍

50nm

50nm

50nm

50nm

100nm

100nm

500nm

準(zhǔn)確度*,**

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

1nm or 0.2%

2nm or 0.2%

3nm or 0.4%

精度*,**

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.02nm

0.1nm

穩(wěn)定性*,**

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.05nm

0.15nm

光源

氘燈 & 鎢鹵素?zé)?內(nèi)置)

鎢鹵素?zé)?內(nèi)置)

光斑 (直徑)

 

 

350um (更小光斑可根據(jù)要求選配)

 

 

材料數(shù)據(jù)庫(kù)

 

 

 

> 600 種不同材料

 

 

 

Accessries 配件:

電腦

19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦

聚焦模塊

光學(xué)聚焦模塊安裝在反射探頭上,光斑尺寸<100um

薄膜/比色皿容器

在標(biāo)準(zhǔn)器皿中對(duì)薄膜或液體的透射率測(cè)量

接觸式探頭

用于涂層厚度測(cè)量和光學(xué)測(cè)量的配件,適用于彎曲表面和曲面樣品

顯微鏡

用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測(cè)量

Scanner  (motorized)

帶有圓晶卡盤(pán)的Polar(R-Θ)或 Cartesian(X-Y)自動(dòng)化樣品臺(tái)可選,Polar(R-Θ)樣品臺(tái)支持反射率測(cè)量,Cartesian(X-Y)樣品臺(tái)支持反射率和透射率測(cè)量

積分球

用于表征涂層和表面的鏡面反射和漫反射

手動(dòng) X-Y 樣品臺(tái)

測(cè)量面積為 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的x - y 手動(dòng)平臺(tái)

加熱模塊

嵌入FR-tool 中,范圍由室溫~200oC,通過(guò)FR-Monitor 運(yùn)行可編程溫控器(0.1 oC 精度).

液體模塊

聚四氟乙烯容器,用于通過(guò)石英光學(xué)窗口測(cè)量在液體中的樣品。樣品夾具,

用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中

流通池

液體中吸光率、微量熒光測(cè)量






工作原理:

白光反射光譜(WLRS)是測(cè)量垂直于樣品表面的某一波段的入射光,在經(jīng)多層或單層薄膜反射后,經(jīng)界面干涉產(chǎn)生的反射光譜可確定單層或多層薄膜(透明,半透明或全反射襯底)的厚度及 N*K 光學(xué)常數(shù)。

* 規(guī)格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度測(cè)量范圍即代 表光譜范圍,是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測(cè)量厚度。

 

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