納米壓印光刻系統(tǒng)制造商SwissLitho AG今天宣布一種聯(lián)合解決方案，可以生產(chǎn)最小到單納米級的3D結(jié)構(gòu)。該方案最初在由歐盟第七框架計劃資助的“超越CMOS器件的單納米制造（SNM）”項目中得到證明，該方案涉及SwissLitho的新型NanoFrazor熱掃描探針光刻系統(tǒng)，以生產(chǎn)具有3D結(jié)構(gòu)的主模板用于納米壓印光刻系統(tǒng)和EVG。
目標(biāo)應(yīng)用：
EVG和SwissLitho最初將以聯(lián)合解決方案為目標(biāo)，以開發(fā)衍射光學(xué)元件和其他相關(guān)光學(xué)組件，以支持光子學(xué)，數(shù)據(jù)通信，增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實(shí)和其他應(yīng)用，并有可能擴(kuò)展到生物技術(shù)，納米流體技術(shù)和其他納米技術(shù)應(yīng)用。
作為聯(lián)合解決方案的一部分，SwissLitho的NanoFrazor系統(tǒng)將用于創(chuàng)建壓印母版。與傳統(tǒng)方法相比，該新技術(shù)具有較好的精度打印3D結(jié)構(gòu)的*能力。然后，將使用EVG的HERCULES NIL系統(tǒng)，通過該公司專有的大面積納米壓印SmartNIL納米壓印技術(shù)，以高成本效益，高成本效益地創(chuàng)建工作模板。
EV Group公司技術(shù)總監(jiān)Thomas Glinsner博士指出：“ SwissLitho的NanoFrazor解決方案與EVG的SmartNIL納米壓印技術(shù)高度互補(bǔ)。我們可以共同為光子學(xué)和其他涉及3D結(jié)構(gòu)圖案的應(yīng)用提供完整的NIL納米壓印解決方案，為兩家公司提供了巨大的機(jī)會為了擴(kuò)大我們的客戶群和市場范圍，我們的NILPhotonics能力中心將成為對此聯(lián)合解決方案感興趣的客戶的第一聯(lián)系點(diǎn)，我們將在此提供可行性研究，演示和中試生產(chǎn)。
技術(shù)的仔細(xì)研究NanoFrazor背后的技術(shù)是熱掃描探針光刻技術(shù)，該技術(shù)是在蘇黎世的IBM Research發(fā)明的，并被SwissLitho AG收購。這種無掩膜的直接寫入光刻方法涉及在圖案化之前將*的熱敏抗蝕劑旋涂到樣品表面上。然后使用加熱的超銳利頭端來分解和蒸發(fā)抗蝕劑，同時檢查書寫的納米結(jié)構(gòu)。然后可以使用剝離，蝕刻，電鍍，模制或其他方法將所得的任意抗蝕劑圖案轉(zhuǎn)移到幾乎任何其他材料中。
SwissLitho執(zhí)行官Felix Holzner博士說：“我們開發(fā)了NanoFrazor產(chǎn)品線，以提供一種高性能，價格合理的替代產(chǎn)品，并擴(kuò)展了昂貴的電子束光刻系統(tǒng)。”“該技術(shù)允許一步制造具有多個'級別'的母版。特別是，與傳統(tǒng)的電子束或灰度光刻方法相比，具有納米精度的3D結(jié)構(gòu)可以更容易地制造，并且保真度更高。我們期待著與客戶合作，將我們的技術(shù)與EVG在奧地利NILPhotonics納米壓印技術(shù)中心的成功SmartNIL納米壓印工藝相結(jié)合。”
HERCULES NIL納米壓印設(shè)備將EVG在NIL納米壓印，抗蝕劑處理和大批量制造解決方案方面的廣泛專業(yè)知識結(jié)合到單個集成系統(tǒng)中，該系統(tǒng)可為200毫米晶圓提供高達(dá)40 wph的吞吐量。該系統(tǒng)的可配置模塊化平臺可容納多種壓印材料和結(jié)構(gòu)尺寸，從而使客戶在滿足其制造需求時具有更大的靈活性。此外，其制造多次使用的軟郵票的能力有助于延長原版烙印模板的使用壽命。
使用SwissLitho的NanoFrazor制造的3D計算機(jī)生成的全息圖的納米壓印圖章的形貌圖像。使用EV Group的HERCULES NIL納米壓印光刻系統(tǒng)，此類印章可用于大量復(fù)制3D結(jié)構(gòu)。
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